Chips kunnen met de huidige fabricagemethodes nog een stuk kleiner gemaakt worden met behulp van water. Dit leggen onderzoekers van het Rochester Institute of Technologie uit aan IDG Newsservice.
<img src="http://upload.userbase.be/upload/tn_pentium5.jpg" align="left" width="119" height="107"> Door een klein stroompje water over het oppervlak van het silicium te laten lopen tijdens het etsen van de lijnen kan een spoorbreedte van 45 nanometer worden bereikt. Dat komt door de lichtbreking in de waterdruppels. In de huidige generatie chips worden spoorbreedten van 90 nanometer toegepast. Lang werd gedacht dat etsgereedschap met kleinere golflengten nodig waren om de spoorbreedte te kunnen verkleinen tot 65 nanometer. Het probleem is dat de vervanging van de machines een zeer kostbare operatie is en veel tijd vergt om kinderziekten op te lossen. Om de waterstromen toe te passen moeten zij wel investeren in apparatuur die het water zuiveren zodat het silicium niet vervuild raakt. Bovendien moet het water in een zeer constante stroom worden afgegeven.
Bron: ZdNet
